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El diseñador Matías Hernán presentó su colección Digital Couture Project para Epson en el marco de New York Fashion Week F/W 2016

En Blog, Chile, Diseñadores, Diseño Latinoamericano, Fashion News, Fashion Shows, Moda y Tecnología | Por Ignacia Inostroza febrero 10, 2016

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Ayer, en plena gran manzana de Nueva York y con temperaturas bordeando los 0°C, el diseñador chileno y ganador de la tercera temporada de Project Runway Latinoamérica, Matías Hernán, presentó su colección cápsula para la marca de impresoras Epson, en el Digital Couture Project 2016. El evento se enmarca como previa a las pasarelas femeninas de la temporada Otoño/Invierno del New York Fashion Week y contó con la presencia de otros 10 diseñadores. ¿El objetivo? Mostrar los avances de nuevas técnicas en impresión textil por sublimación y apoyar el potencial creativo de una representativa selección de diseñadores del continente. 

Tres de los cuatro looks que llevó el chileno a Nueva York fueron los que se mostraron en el showroom de la galería 60 Tenth, cerca del Chelsea Market. En total fueron 8 piezas llenas de color, textura e intensidad gráfica creada a partir de la técnica de sublimación. Esta técnica consiste en crear diseños mediante tintas que se impregnan a una tela de poliéster luego de haber pasado de un estado sólido a gaseoso.

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La colección del chileno se inspiró en la temática “Amor y Paz en la Moda” con prendas de colores intensos tipo arcoiris y un espíritu de paz y armonía

“La sublimación es un proceso químico en el que una materia cambia de estado sin pasar por su forma intermedia: es decir, el agua pasa a gas sin haber adquirido un estado líquido”, nos explicó Matías desde Nueva York. “El acto se explica porque la tinta, que es sólida, recibe un tratamiento de calor intenso (200°C) transformándola inmediatamente a gas para penetrar la fibra sintética”, agrega.

“El lunes estuvimos todo el día en el shooting del lookbook, después la prueba de maquillaje y el fitting. Ayer el evento funcionó como showroom, donde mostré tres de los cuatro looks en una plataforma visible para todos los invitados, a quienes les iba a explicando el proceso de sublimación a medida que se acercaban. Incluso hubo una Black Carpet de E! Entertainment”, nos contó también el chileno.

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En la muestra exhibieron diseñadores como María de Lourdes Ramírez e Isabel Navarro Landa de Mexico, Felipe Santamaría de Colombia, Agostina Orlandi y Ludmila Osikovsky de Argentina, Janet Ríos y Carmen Artica de Perú, Danny Santiago de Miami, Estados Unidos y Fabio Yukio Brasil, entre otros.

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Imágenes Instagram y Matías Hernán

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